实现28纳米工艺全覆盖国产离子注入设备
科技日报记者 付毅飞。实现设备 6月29日,纳米记者从中国电子科技集团获悉,工艺盖国中电电子设备集团有限公司(以下简称“电子设备”)实现了离子注入设备28纳米工艺的全覆全覆盖,有效保障了中国集成电路制造业在成熟工艺领域的产离工业安全。 研发人员正在调试离子注入机。注入中国电科供图。实现设备 据悉,纳米离子注入机是工艺盖国芯片制造的关键设备,28纳米是全覆芯片应用领域覆盖面最广的成熟工艺。 电气设备不断突破光路、产离控制、注入软件等关键模块的实现设备核心技术,形成中束流、纳米大束流、工艺盖国高能、第三代半导体等全系列离子注入机产品模式,实现28纳米工艺全覆盖,有效保证中国“核心”的生产。 据了解,电气设备作为中国第一家从事离子注入设备开发和工业化的企业,拥有从产品设计到大规模生产应用的完整开发体系,产品涵盖逻辑、存储、功率设备、传感器等工艺设备,100台设备广泛应用于国内主要集成电路先进生产线,累计流量超过2000万,有效提高了中国产业链供应链的韧性和安全水平。
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